일반적인 Lapping 의 주 목적은 평면도와 평행도를 맞추고 교합부품의 정확한 맞물림을 얻기 위하여 가공하는
작업으로 가공물의 표면과 랩정반의 사이에 랩재나 공작액을 가하고
가공물과 랩에 상대운동을 시키면 랩재의
작용으로 공작물 표면에서 극히 미량을 깎아내어 치수가 정확한 평활한 다듬질면을 얻는 공작법이다.
하지만 기존의 랩핑 방법은 작업 중에 랩재와 공작액을 다량으로 사용해야 되기 때문에 친환경적이지 못하며 세척이
어렵고 작업시간이 오래 걸린다. 에스와이디는 기존의 Lapping 방법을 개선하기 위하여 정반의 랩재를 고정지립으로
만들어 베이스에 부착하여 가공물을 습식으로 Lapping 할 수 있게 개발하였다.
고정지립의 사용으로 랩재와 공작액의 사용을 줄여 친 환경적이고 세척이 쉬운 쾌적한 작업환경을 만들 수 있으며
이로 인하여 작업시간과 유지비용을 줄일 수 있다.
일반적인 폴리싱의 주 목적은 평면도와 평행도를 유지하면서 표면조도를 개선하고 Lapping 후 스크래치나 전 공정의 스크래치를 없애기 위한 공정으로 공작물의 표면과 랩과의 사이에 랩재나 공작액을 가하고 Lapping 작업과 유사하게
공작물과 랩에 상대운동을 시키면 랩재의 작용으로 공작물 표면의 조도를 일정하게 하여 거울과 같은 면을 얻는
공작법이다.
일반적인 Lapping 과 Polishing 을 위에서 설명한 것과 같이 다르게 구분을 한다는 것은 어려운 일이며 다만 간단하게 LAPPING은 공작물의 치수와 정도를 맞추는 작업이고 Polishing 은 공작물을 Lapping 한 후의 단계로서 공작물의 표면을 연마하는 개념보다는 거울면이 되도록 광을 내는 작업이며 랩재와 랩을 선정하는데 많은 어려움이 있다.
에스와이디 수퍼비트리파이드 정반은 고정지립 방식으로서 가공시간과 유지비용을 대폭 줄일 수 있는 초연마재입니다. 에스와이디 양면 & 단면 랩핑기는 자동압력변환방식으로 비트리파이드 정반의 성능을 최대로 올릴 수 있습니다.